国家标准《高纯镍靶材》由TC243(全国有色金属标准化技术委员会)归口,TC243SC2(全国有色金属标准化技术委员会重金属分会)执行,主管部门为中国有色金属工业协会。主要起草单位宁波江丰电子材料股份有限公司、金川集团股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、上海同创普润新材料有限公司、南京达迈科技实业股份有限公司。主要起草人姚力军 、边逸军 、廖培君 、胡家彦 、杨慧珍 、王学泽 、周友平 、杨晓艳...
基础信息
采标情况
起草单位
宁波江丰电子材料股份有限公司
有研亿金新材料有限公司
南京达迈科技实业股份有限公司
金川集团股份有限公司
上海同创普润新材料有限公司
起草人
姚力军
边逸军
杨慧珍
王学泽
汤婷
吴东青
吴宇宁
干科军
时晓旭
廖培君
胡家彦
周友平
杨晓艳
张亚东
朱孜毅
钟成铭
黄引驰
相近标准
XB/T 524-2023 高纯金属钇靶材
YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材
YS/T 937-2013 镍铂靶材
YS/T 893-2013 电子薄膜用高纯钛溅射靶材
YS/T 819-2012 电子薄膜用高纯铜溅射靶材
YS/T 1025-2015 电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材
YS/T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材
GB/T 39159-2020 集成电路用高纯铜合金靶材
YS/T 1516-2022 高纯镍铸锭
YS/T 935-2013 电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南