发布日期：2024-03-15
实施日期：2024-10-01
状态：现行
国家标准《表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性》由TC608（全国表面化学分析标准化技术委员会）归口，主管部门为中国科学院。主要起草单位北京师范大学、清华大学、中国科学院物理研究所、中国计量科学研究院、北京化工大学。主要起草人吴正龙 、李展平 、陆兴华 、王海 、程斌 。
基础信息
采标情况
本标准等同采用ISO国际标准：ISO 23830:2008。
采标中文名称:表面化学分析 二次离子质谱 静态二次离子质谱相对强度标的重复性和一致性。
起草单位
北京师范大学
中国科学院物理研究所
北京化工大学
清华大学
中国计量科学研究院
起草人
吴正龙
李展平
程斌
陆兴华
王海
相近标准
20232366-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 单离子计数飞行时间质谱分析器的强度标线性
GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
GB/T 25186-2010 表面化学分析 二次离子质谱 - 由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
20232769-T-469 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法